隨著數(shù)控機床在機床制造領(lǐng)域的普及，現(xiàn)代機床在加工速度、加工精度和可靠性方面也都有了大幅提高，這在很大程度上得宜于機床用光柵測量元件。

單場掃描技術(shù)和絕對式測量技術(shù)是當(dāng)前角度和長度測量技術(shù)發(fā)展中最主要的兩個方向，而且單場掃描技術(shù)和絕對式測量技術(shù)還可以組合應(yīng)用。同時采用這兩種技術(shù)的單場掃描絕對式測量設(shè)備無論從信號質(zhì)量、抗污染能力、測量速度還是可靠性來看都遠遠優(yōu)于傳統(tǒng)測量設(shè)備，此類產(chǎn)品在市場上的迅速推廣也證實了這一點。

單場掃描技術(shù)

傳統(tǒng)的角度和長度測量設(shè)備所采用的四場成像式掃描方法中，光柵標(biāo)尺與帶有類似或相同光柵結(jié)構(gòu)的掃描掩膜做相對運動。穿過標(biāo)尺與掩膜光線的明暗程度按標(biāo)尺與掩膜相對位置的不同而有規(guī)律地變化：當(dāng)標(biāo)尺與掩膜的空隙吻合時，光線得以穿過；當(dāng)柵線與空隙重合時，沒有光線穿過。感光元件將光強的變化轉(zhuǎn)變?yōu)殡娮有盘�。掃描掩膜上有四個掃描區(qū)，各掃描區(qū)光柵間互相錯開1/4柵距，對應(yīng)于這四個掃描區(qū)的感光元件生成相位差為90°的四個正弦信號。這四個掃描信號不以零線為其中線，所以需要將四個信號兩兩相減，以獲得兩個90°相位差，中線為零線的輸出信號l1和l2.

新型的單場掃描技術(shù)中，掃描掩膜帶一個大尺寸光柵，其柵距與光柵標(biāo)尺的柵距略有不同（圖1），由此在掃描掩膜光柵長度上會產(chǎn)生明暗交替現(xiàn)象：某些地方柵線與柵線重疊，光線可以通過；某些地方柵線與空隙重疊，光線無法通過；在這兩者之間，空隙部分被遮擋，這起到了光學(xué)過濾的作用，使得產(chǎn)生均勻的高正弦性信號成為可能。特制的柵狀感光元件取代了獨立感光元件，生成四個相位差為90°的掃描信號。